Procesos de producción para electrónica

Tecnología microelectrónica

El término tecnología microelectrónica pretende indicar, en el contexto de los procesos de fabricación industrial de circuitos integrados (ICS), la longitud del...

Deposición química por fase de vapor de diamante

El proceso conocido como deposición en fase de vapor químico del diamante es una tecnología microelectrónica particular, en este caso un CVD, que aprovecha algu...

90 nm

El proceso de fabricación de 90 nm (90 nanómetros) es la evolución del proceso anterior de 130 nm utilizado para microprocesadores Intel desde principios de 200...

Vetronite

La vetronita (o vidrio epoxi o fibra de vidrio) es un material compuesto a base de fibras de vidrio dispuestas ortogonalmente entre dos capas en una matriz de r...

Unión de túnel magnético

Magnetic Tunneling Junction, abreviado a MTJ, es un término del idioma inglés que se puede traducir como "junction to tunnel effect-magnetic" y que es para indi...

La xerografía

La xerografía es un proceso de impresión en seco electrostático utilizado en la reproducción (fotocopiadora) de documentos. Esta invención también marcó definit...

Grabación perpendicular

El nombre "grabación perpendicular" que resume el funcionamiento de esta nueva técnica para magnetizar las placas del disco duro : con el método estándar adopta...

1 µm

1µm (1000 nanómetros o 1.0 µm) evolución del proceso anterior a 1. 5 µm es un proceso de producción de tecnología de semiconductores con el que se producen circ...

Sitio limpio

El Clean Room, también llamado laboratorio limpio, es un entorno utilizado como laboratorio químico, mecánico y/o electrónico cuya principal característica es l...

7 nm

El 7nm (nanómetro 7), evolución del proceso anterior a 10 nm, es un proceso de producción de tecnología semiconductora, con el que se producirán los circuitos i...

Itrio y granate de aluminio

Granate de aluminio itrio (Y 3 a 5 o 12), YAG del granate de aluminio itrio inglés, es un mineral sintético de aluminio e itrio con los mismos parámetros celula...

10 µm

10 µm (o 10000 nanómetros) es un proceso de producción de tecnología de semiconductores con el que se producen circuitos integrados a escala de integración ultr...

45 nm

El proceso de construcción de 45 nm (45 nanómetros) es la evolución del proceso anterior de 65 nm utilizado, por ejemplo, por Intel y AMD para la producción de ...

Corriente inducida por haz óptico

La corriente inducida por haz óptico es una técnica de análisis de semiconductores que utiliza un rayo láser escaneado para inducir una corriente dentro de ello...

OTFT

Un OTFT (acrónimo de Transistor de película delgada orgánica) es un transistor de película delgada hecho de material orgánico. De hecho, hay una serie de materi...

Arseniuro de indio

El arseniuro de indio es un material semiconductor, compuesto de indio y arsénico. Su fórmula química es InAs y viene en forma de cristales cúbicos grises. Su t...

Bromógrafo

Bromograph es una herramienta utilizada para la grabación de fotografías en fotografía, serigrafía, impresión offset y electrónica. Su nombre proviene de su uso...

Películas finas

Las películas delgadas se definen como capas de materiales gruesos entre fracciones de nanómetros (monocapas) a varios micrómetros de espesor. Entre las princip...

Litografía (electrónica)

La litografía es un proceso de fabricación de dispositivos semiconductores, que incluye todos los procesos que dan forma o alteran las formas preexistentes en e...

Transistor fino de la película

El transistor de película delgada (TFT) es un tipo especial de MOSFET, hecho depositando capas delgadas de semiconductores activos, dieléctricos y contactos met...

Grabación magnética de tejas

La grabación magnética de tejas (SMR), o grabación magnética en capas es una tecnología de grabación de datos en medios magnéticos utilizados en discos duros pa...

10 nm

El proceso constructivo a 10nm (10 nanómetros), inicialmente 11nm, según la Hoja de Ruta Tecnológica Internacional para Semiconductores, es la evolución del pro...

Tecnología de montaje en superficie

La tecnología de montaje en superficie (SMT) es una técnica utilizada en electrónica para el montaje de una placa de circuito impreso que requiere la aplicación...

Revestimiento para rotación

El recubrimiento de giro es un procedimiento utilizado para aplicar una película delgada y uniforme a un sustrato sólido plano. En resumen, una cantidad excesiv...

Fosfuro de indio

El fosfuro de indio es un material semiconductor compuesto de indio y fósforo. Su fórmula química es InP. Se utiliza para producir algunos tipos de diodos, incl...

600 nm

La evolución de 600 nm (600 nanómetros o 0,60 µm) del proceso anterior de 800 nm es un proceso de producción de tecnología de semiconductores con el que se prod...

SiPM

A diferencia de los fotomultiplicadores tradicionales (PMT o tubos fotomultiplicadores), construidos con tubos de vacío, los Sipms se producen directamente a p...

1,5 µm

La evolución de 1,5 µm (o 1500 nanómetros) del proceso anterior a 3 µm es un proceso de producción de tecnología de semiconductores con el que se producen circu...

5 nm

El 5 nm (nanómetro 5), evolución del proceso anterior de 7 nm, es un proceso de producción de tecnología de semiconductores en construcción, con el que se produ...

Dopaje de difusión térmica

El dopaje por difusión térmica es un proceso en el que las obleas de silicio se llevan a temperaturas superiores a 1000 °C para activar la difusión del fármaco ...

800 nm

La evolución de 800 nm (800 nanómetros o 0,80 µm) del proceso anterior a 1 µm es un proceso de producción de tecnología de semiconductores con el que se produce...

Compuerta de reloj

Esta técnica se hizo relevante con la introducción de dispositivos móviles en los años noventa y luego se extendió al campo de los procesadores y chips gráfico...

Granate de itrio y aluminio

Granate de aluminio itrio (y 3 a 5 o 12), YAG del Inglés granate de aluminio itrio, es un mineral sintético de aluminio e itrio con los mismos parámetros celula...

Borde activado

El borde activado es una tecnología electrónica particular utilizada en la realización de clases particulares de entradas lógicas, por ejemplo entradas de tiemp...

Sala limpia

La sala limpia, también llamada laboratorio limpio, es un ambiente utilizado como laboratorio químico, mecánico y/o electrónico cuya característica principal es...

130 nm

La evolución de 130 nm (130 nanómetros o 0,13 µm) del proceso anterior a 180 nm es un proceso de producción de tecnología de semiconductores con el que se produ...

180 nm

La evolución de 180 nm (180 nanómetros o 0,18 µm) del proceso anterior a 250 nm es un proceso de producción de tecnología de semiconductores con el que se produ...

250 nm

La evolución de 250 nm (250 nanómetros o 0,25 µm) del proceso anterior a 350 nm es un proceso de producción de tecnología de semiconductores con el que se produ...

Recubrimiento de inmersión

El recubrimiento por inmersión es un proceso utilizado para depositar películas delgadas en un sustrato sólido por inmersión de ese sustrato en un tanque que co...

Recubrimiento para rotación

Spin coating es un procedimiento utilizado para aplicar una película delgada y uniforme a un sustrato sólido plano. En resumen, una cantidad excesiva de una sol...

Miniaturización

Aunque ya practicada en la antigüedad, la propia miniaturización como paradigma dominante en la era moderna y contemporánea: los estudios sobre el átomo allanan...

Litografía ultravioleta extrema

La litografía ultravioleta extrema o EUVL (del inglés litografía ultravioleta extrema) es una técnica de litografía que utiliza un haz de luz del ultravioleta e...

Línea de la pista de aire

La línea air strip, a menudo referida por el término inglés air stripline, también llamada suspended stripline, en inglés suspended stripline, es una forma de l...

Czochralski Caso

El proceso Czochralski es una técnica introducida en los sistemas de producción industrial a principios de los años cincuenta, que permite obtener el crecimient...

Oblea (electrónica)

Una oblea, en microelectrónica, es una delgada rebanada de material semiconductor, como un cristal de silicio, sobre el cual se hacen del chip o matriz con circ...

350 nm

La evolución de 350 nm (350 nanómetros o 0,35 µm) del proceso anterior a 600 nm es un proceso de producción de tecnología de semiconductores con el que se produ...

Foveon X3

El sensor Foveon X3 es un sensor de imagen CMOS para cámaras digitales diseñado por Foveon, Inc. (ahora parte de Sigma Corporation) y producido por National Sem...

22 nm

El proceso de construcción de 22nm (22 nanómetros) es la evolución del proceso de 32 nm utilizado para los microprocesadores Intel Y AMD (así como otros tipos d...

14 nm

14nm es un proceso de fabricación para microprocesadores informáticos, una evolución del proceso de 22 nm utilizado para microprocesadores Intel Y AMD (así como...

32 nm

El proceso de construcción de 32nm (32 nanómetros) es la evolución del proceso de 45 nm utilizado para microprocesadores Intel, AMD E IBM (así como otros tipos ...
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